나노물질 공정과정 단순화 기술 개발

(아주경제 권석림 기자) 크기가 10억분의 1m 정도로 작은 나노물질이 일정한 패턴을 갖도록 만드는 공정과정을 간소화 하는 기술을 국내 연구진이 개발했다.

교육과학기술부는 고승환 한국과학기술원(KAIST) 기계항공공학부 교수(사진)팀이 한 번의 공정으로 원하는 위치에 나노물질을 직접 성장시키는 저온 디지털 공정기술을 개발했다고 29일 밝혔다.

연구팀에 따르면 나노물질을 합성하거나 패턴 작업을 하려면 기존에는 높은 온도에서 폭발성이 높은 기체를 사용해 성장시키거나 복잡한 정렬방법으로 조립하는 번거로움이 있었다.

부식성이 강한 화학약품을 사용해 플라스틱처럼 저렴하고 유연한 기판은 이용할 수 없었다.

연구팀은 나노물질의 씨앗층(seed layer) 패턴을 기판 위에 형성, 이어 100도 이하의 저온 용액에서 열수 화학반응으로 씨앗층에만 나노와이어를 선택적으로 성장시키는데 성공했다.

고 교수는 “나노물질을 직접 합성하고 패터닝해 나노소자 개발기간을 기존의 10분의 1수준으로 단축이 가능하며 차세대 대량생산 공정으로 주목 받는 롤투롤(roll-to-roll)로도 적용할 수 있다”고 말했다.

이번 연구성과는 미국화학회가 출판하는 표면·계면·재료화학분야의 권위 있는 학술지 ‘랭뮤어(Langmuir)’에 14일자 표지논문에 실렸다.