개정안은 △해외사용 목적으로 산업기술을 유출한 경우 현재 "징역 10년 이하 또는 벌금 10억원 이하"를 "징역 7년 이상 또는 15억원 이하의 벌금"으로 △그 밖의 산업기술 유출에 대해 현재 "징역 5년 이하 또는 벌금 5억원 이하"를 "징역 3년 이상 또는 7억원 이하의 벌금"에 처할 수 있도록 각각 형량을 높였다.
박 부의장은 "산업스파이에 대한 법원의 처벌이 미온적이었다는 지적이 있어왔던 만큼, 일정 형량 이상의 징역에 처하거나 벌금을 상향함으로서 국가적 손실을 방지하고 국가 경쟁력을 높이자는 의미"하며 "막대한 자금과 인력을 투입해 개발한 첨단기술이 경쟁 국가로 유출된다면 해당 기업은 물론 국가차원의 심각한 경쟁력 상실로 이어질 수 있다"고 설명했다.
최근 국내 기업들이 개발한 세계 최초 55인치 TV용 유기발광다이오드(OLED) 핵심기술이 산업스파이에 의해 해외로 유출되는 등 지난 2005년부터 2011년까지 국내 첨단기술이 해외로 불법 유출됐거나 유출 기도가 적발된 사례는 264건에 달했다.
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