<공시> 원익아이피에스, 가스 분사 장치 등 관련 특허권 취득

아주경제 이광효 기자=원익아이피에스는 3일 공시를 통해 가스 분사 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 특허권을 취득했다고 밝혔다.

원익아이피에스는 이날 해당 특허권에 대해 “반도체 제조 장치에서 가스 분사 장치에서 공급되는 공정 가스의 흐름을 원할하게 하고 파티클 발생을 억제하기 위한 기술”이라고 밝혔다.