<공시> 에스앤에스텍, 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 특허권 취득

아주경제 이광효 기자=에스앤에스텍은 8일 공시를 통해 ‘하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 및 그 제조 방법’ 특허권을 취득했다고 밝혔다.

에스앤에스텍은 “위상반전막의 두께를 저감시킬 수 있는 블랭크 마스크를 제공한다”며 “위상반전 블랭크 마스크 및 포토마스크 특허로서 기술 경쟁력을 향상시킬 수 있다”고 말했다.