KAIST, DNA 이용한 초소형 반도체 기술 개발

(아주경제 권석림 기자) 생체분자인 유전자(DNA)를 이용해 2나노미터(nm, 10억분의 1m)급 반도체를 만들 수 있는 원천기술이 개발됐다.

한국과학기술원(KAIST)은 김상욱 신소재공학과 교수 연구팀이 DNA를 반도체 신소재인 그래핀 위에 배열시키는 기술을 활용해 초소형 반도체 회로를 만들 수 있는 기술을 개발했다고 6일 밝혔다.

현재 상용화중인 반도체는 20나노미터급으로, 최첨단 반도체 기술로도 10나노미터 이하의 반도체 제작은 불가능한 것으로 알려져 있다.

연구팀에 따르면 2나노미터까지 정교한 미세패턴을 구현할 수 있는 이중 DNA에 그래핀을 흡착시키는 방법으로 초미세 반도체칩을 만들 수 있는 원리를 개발했다.

2나노미터 반도체가 개발되면 우표 크기의 메모리에 고화질 영화 1만편을 저장할 수 있다.

그래핀은 다른 물질과 잘 달라붙지 않는 성질을 갖고 있지만 연구팀은 소재를 화학적으로 개질해 다양한 물질을 흡착할 수 있도록 만들었다.

김 교수는 “실리콘 기반 기존의 반도체 기술은 한계에 이르렀다”면서 “이번 기술이 나노반도체나 바이오센서 등 다양한 분야에 원천기술로 활용될 수 있을 것”이라고 말했다.

이번 연구결과는 화학분양의 권위 있는 학술지인 ‘앙케반테 케미’ 1월호 표지논문에 실렸다.