'SK하이닉스 기술 中 유출' 협력사 부사장, 징역 1년 6개월

대법, 2심 판결 확정...다른 직원 4명도 징역형

대만 타이베이 난강 전시관에서 개최된 '컴퓨텍스 2025'에서 SK하이닉스 부스 [사진=연합뉴스]

대법원이 11일 SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국에 유출한 혐의로 기소된 협력사 부사장 A씨에 대한 최종 판결로 징역 1년6개월을 선고했다. 

대법원 1부는 이날 오전 10시 10분 산업기술보호법 위반, 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설 등) 등 혐의로 A씨(61) 등에게 내려진 2심 판결을 확정했다. 

연구소장 등 다른 직원 3명도 징역 1년∼징역 1년 6개월의 실형, 다른 직원 1명은 징역 8개월에 집행유예 2년을 확정 받았다. 행위자와 법인을 함께 처벌하는 양벌규정에 따라 기소된 협력사 법인에도 벌금 10억원이 확정됐다.

대법원은 "원심 판단에 논리와 경험의 법칙을 위반해 자유심증주의의 한계를 벗어나거나 산업기술보호법 위반에서 정한 국가핵심기술과 첨단기술, 부정경쟁방지법에서 정한 영업비밀 등에 관한 법리를 오해한 잘못이 없다"며 검찰과 피고인들의 상고를 모두 기각했다.

앞서 2심 재판부인 서울고법 형사7부(이재권 송미경 김슬기 부장판사)는 지난 5월 18일 A씨에게 징역 1년 6개월의 실형을 선고했다. 1심에서는 징역 1년을 선고한 바 있다. 

A씨 등은 2018년부터 SK하이닉스와의 협업 과정에서 알게 된 하이케이메탈게이트(HKMG) 공정 기술, 세정 레시피 등 핵심 반도체 기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 기소됐다. HKMG는 D램의 속도를 높이면서 소비 전력을 줄이는 차세대 반도체 제조기술이다.

이들은 삼성전자 자회사인 세메스의 전직 직원을 통해 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 세정장비 도면 등 첨단 장비 기술을 몰래 취득한 뒤 이를 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받는다.