‘비대칭 나노패턴’ 제조기술 개발

아주경제 권석림 기자= 포스텍(포항공과대)은 김진곤 화학공학과 교수(사진)팀이 미국 텍사스주립대 벤캣 가네산 교수팀과 공동으로 패턴 간격이 다른 비대칭 나노패턴을 실리콘 기판 위에 수직으로 정렬하는 기술을 개발했다고 29일 밝혔다.

서로 다른 종류의 고분자가 화학적으로 결합된 블록공중합체는 반도체 기술에 필요한 리소그라피(나노 크기의 회로를 패턴으로 기록하는 방식) 단계에서 라인 패턴의 간격을 조절할 수 없다.

연구팀은 이번에 수소결합이 가능한 두개의 블록공중합체를 사용해 10나노미터 이하의 라인 간의 간격을 조절할 수 있는 기술을 개발에 성공했다.

이 기술은 초고밀도 반도체 뿐만 아니라 나노회로 디자인에도 적용돼 차세대 리소그라피 기술 개발에 새로운 길을 제시한 것으로 평가받고 있다.

김 교수는 “원자·분자부터 나노구조가 자동적으로 형성되는 자기조립 현상을 이용하는 바텀업(Bottom up) 방법을 이용해 10나노미터 이하의 비대칭 나노패턴을 제조할 수 있는 이 기술은 차세대 반도체의 핵심기술 중 하나인 차세대 리소그라피 개발에 큰 도움을 줄 것”이라고 말했다.