ASML 화성캠퍼스 준공···삼성·SK하닉과 반도체 기술 동맹 본격화(종합)

크리스토퍼 푸케 ASML CEO, 이재용·최태원 회장 회동↑

삼성전자, 5000억원대 ASML 초고성능 장비 '하이 NA' 도입키로

12일 ASML 화성캠퍼스 준공식에서 관계자들이 기념 촬영을 하고 있다. (왼쪽 여섯번째부터) 크리스토프 푸케 ASML 최고경영자(CEO), 로저 다센 ASML 최고재무책임자(CFO), 최한종 ASML코리아 대표 [사진=ASM]
 

세계 최대 반도체 장비 기업 ASML이 경기도 화성에 신사옥을 열면서 한국을 아시아 반도체 전진기지로 공식화했다. 초미세공정 반도체 생산에 총력을 펼치고 있는 삼성전자, SK하이닉스와도 반도체 기술 협력을 강화할 전망이다.
 
12일 ASML은 경기도 동탄일반산업단지 내 화성캠퍼스 개소식을 진행했다. 크리스토퍼 푸케 ASML 최고경영자(CEO)는 이날 행사에 참석하기 위해 극비리에 방한했다. 송재혁 삼성전자 반도체(DS) 부문 최고기술책임자(CTO) 겸 반도체연구소장과 차선용 SK하이닉스 미래기술연구원장(사장) 등 삼성전자와 SK하이닉스 고위 임원들을 포함해 총 80여 명이 함께했다.
 
푸케 CEO는 "화성시에 캠퍼스를 조성하기로 한 것은 매우 전략적인 결정"이라며 "주요 반도체 기업들이 화성시에 자리 잡고 있는 만큼 효율적인 반도체 기술 이전에 기여할 것"이라고 밝혔다.
 
ASML은 국내 반도체 기업들과 기술 파트너십을 위해 약 2400억원을 투자해 화성캠퍼스를 조성했다. 용지 1만6000㎡에 부품 재사용 및 복구(Reuse&Repair) 시설, 교육센터, 사무동 등 조성으로 '반도체 복합 허브'를 구축했다. 

 
푸케 CEO는 고객사의 수장인 이재용 삼성전자 회장, 최태원 SK그룹 회장과도 회동을 추진할 것으로 알려졌다. ASML이 반도체 장비 공급 기업이지만 극자외선(EUV) 노광장비를 사실상 전 세계에서 독점 생산하고 있는 만큼, 삼성전자와 SK하이닉스에 없어 설 안 될 '슈퍼을(乙)'이기 때문이다. EUV 노광장비는 빛의 파장을 활용해 미세하게 반도체 회로를 그리는 기기로, 초미세공정 수율 확보를 위한 필수 장비다.
 
업계에 따르면 삼성전자는 ASML 기기 중에서도 최고 성능으로 꼽히는 '하이(High) 뉴메리컬어퍼처(NA)' EUV 노광장비를 내년 상반기까지 한 대 추가 도입할 예정이다. 기기 한 대당 5000억원이 넘는 초고가 반도체 설비로 전 세계에서 삼성전자, SK하이닉스, 인텔 등 극소수 반도체 기업만 사용하고 있다.
 
앞서 삼성전자는 올해 초 파일럿용 하이 NA를 경기도 화성캠퍼스에 반입하며 파운드리 승부처인 2나노(㎚)급 초미세 공정 기술력을 키워왔다. SK하이닉스 역시 지난 9월 국내 처음으로 하이 NA를 경기도 이천 M16 팹 양산라인에 적용했다.
 
미래 인공지능(AI) 반도체 개발을 위한 공동 연구·개발(R&D)에도 한층 속도가 붙을 전망이다. 2023년 삼성전자는 ASML과 7억유로(약 1조원)를 함께 투자해 수도권 내 EUV 연구소를 설립하고 공동으로 최첨단 반도체 개발 프로젝트에 착수하기로 했다.
 
이후 이 회장이 지난해 4월 ASML 독일 자이스 본사를 직접 방문해 푸케 CEO를 만나며 구체적인 반도체 협력 방안을 논의한 바 있다.