차세대 반도체 활용에 한걸음

권순용 울산과기대 교수

(아주경제 권석림 기자) 상온에 가까운 저온에서 원하는 기판에 그래핀을 직접 합성하는 신기술이 국내 연구자들에 의해 개발됐다.

교육과학기술부와 한국연구재단은 권순용 울산과기대 교수 연구팀이 지금까지 고온(1000oC)에서 금속기판에 그래핀을 합성한 뒤 그래핀을 떼어내 원하는 기판에 옮기는 한계를 극복, 상온에 가까운 저온(기존의 1/5, 200oC 이하)에서 원하는 기판에 그래핀을 직접 합성하는 새로운 기술 개발에 성공했다고 1일 밝혔다.

이 방법을 이용하면 어떠한 기판(단단한 산화 실리콘 기판 및 유리, 플라스틱 기판 등)에도 그래핀을 직접 만들 수 있는 장점이 있다.

연구팀이 개발한 그래핀을 대상기판 위에 형성하는 DAS(Diffusion-Assisted Synthesis)기술을 이용하면 그래핀의 결정립 크기도 자유자재로 조절할 수 있다.

그래핀(Graphene)이란 흑연의 표면층을 한 겹만 떼어낸 탄소나노물질로, 구리보다 100배 이상의 전기전도성과 강철보다 200배 이상의 강도를 지녀 향후 응용 가능성이 높아 꿈의 신소재로 불린다.

권순용 교수는 “이번 연구는 비교적 간단한 장비와 방법으로 저온에서 그래핀을 원하는 기판에 직접 형성하는 기술을 개발한 것으로, 차세대 그래핀 산업에 응용되는 핵심 기술이 될 것으로 기대된다”고 말했다.

연구결과는 세계 최고 권위의 과학전문지 ‘네이처’의 자매지인 ‘네이처 커뮤니케이션즈(Nature Communications)’1월24일자에 실렸다.